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Di R.C. | 31.10.2012 15:34 CET

Da maggio scorso sta infuriando una vera guerra  sul mercato delle rinnovabili, in particolare sulla produzione di celle fotovoltaiche. Prima la Cina che immette pannelli sottocosto per "ammazzare" la concorrenza estera, poi i dazi USA alle celle cinesi e l'aggiramento dei dazi della Cina, per finire con un giro di vite americano all'intero commercio di esportazione cinese.

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Intanto l'Europa è rimasta a guardare. Ma oggi ordisce la riscossa puntando tutto su efficienza e bassi costi per farla in barba alla Sera Maior. I ricercatori del Fraunhofer Institute for Surface Engineering and Thin Films (IST, l'istituto Fraunhofer per l'ingegneria di superficie e film sottili) a Braunschweig stanno lavorando a celle fotovoltaiche con rendimenti fino al 23% (11-16% media attuale) con costi di produzione ridotti del 50%.

Una rivoluzione dettata dal processo di produzione. Come spiega Infofotovoltaico "fino ad ora i costruttori hanno utilizzato il processo a plasma CVD per applicare strati di silicio al substrato di silicio cristallino: la camera di reazione è riempita con silano (le molecole di questo gas sono costituite da un atomo di silicio e quattro d'idrogeno) e con il substrato di silicio cristallino. Il plasma attiva il gas, spezzando così i legami silicio-idrogeno. Gli atomi di silicio ora liberi e i residui di silicio-idrogeno si depositano sulla superficie del substrato. Ma c'è un problema, il plasma attiva solo dal 10 al 15 per cento del gas silano (particolarmente costoso), il restante 85%-90% che non viene attivato, si perde. Ciò comporta costi enormi."

Il nuovo metodo sostituisce il plasma e attiva il gas silano con dei fili caldi a resistenza. "In questo modo, possiamo usare quasi tutto il gas silano, quindi abbiamo effettivamente recuperato 85-90 per cento del gas molto costoso. Questo riduce i costi complessivi di produzione degli strati di oltre il 50%. Il prezzo del filo di cui abbiamo bisogno per questo processo è trascurabile rispetto al prezzo del silano", spiega il Dott. Lothar Schäfer, capo del dipartimento di IST, e continua "così facendo, il nostro sistema è l'unico che ricopre il substrato continuamente durante il suo movimento". Adottare il sistema a tre strati aumenta considerevolmente l'efficienza e la possibilità di produrre pannelli a film sottile.

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(Foto: Reuters.com / )
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© International Business Times: riproduzione permessa purché sia linkata la fonte
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